SKIN 1004 Маска за чувствителна кожа, Skin1004 Madagascar Centella Face Moisturizing Mask 25ml

SKIN1004 Ампулена маска за лице с Центела от Мадагаскар осигурява интензивна хидратация и успокояваща грижа за стресирана и чувствителна кожа. Тази иновативна маска за лице съчетава 51% екстракт от Centella Asiatica от Мадагаскар с лека гел текстура на водна основа, която прилепва перфектно към кожата като втори слой.

Високата концентрация на Centella помага за успокояване на раздразнението, намаляване на зачервяването и укрепване на естествената бариера на кожата. Докато маската се нанася, тя осигурява дълбоко хидратиране, възстановява баланса и оставя кожата гладка, освежена и ревитализирана.

Дишащата и водно-гел текстура осигурява охлаждащо, нелепкаво усещане, което я прави идеална за чувствителна, суха или кожа, подложена на екологични стрес.

Основни предимства
Осигурява дълбока и дълготрайна хидратация
Успокоява раздразнена и чувствителна кожа
Помага за намаляване на зачервяването и сухотата
Укрепва кожната бариера
Охлаждаща, лека гел текстура на лист
Оставя кожата мека, гладка и освежена
Ключови съставки
Екстракт от Centella Asiatica (51%): Успокоява, възстановява и укрепва кожата
Натриев хиалуронат: Хидратира и помага за задържане на влагата
Ботанически екстракти (лайка, корен от божур): Успокояват и подхранват кожата
Хидролизирани хиалуронови компоненти: Осигуряват дълбока хидратация
Детайли за продукта
Тип: Лист маска
Текстура: Воден гел лист
Препоръчителна възраст: 15+
Типове кожа: Комбинирана, Суха, Нормална, Проблемна, Чувствителна
Без
Алуминий, Изкуствени оцветители, Минерално масло, Парабени, Силикон, Силиконово масло, Сулфати, Съставки от животински произход

Съставки (INCI)
Екстракт от Centella Asiatica (51%), Вода, Дипропилен гликол, Глицерет-26, Глицерин, 1,2-хександиол, бетаин, бутилен гликол, екстракт от корен на Paeonia Suffruticosa, полиглицерил-10 лаурат, екстракт от цвят на Chamomilla Recutita (Matricaria), глицерил каприлат, карбомер, ксантанова гума, аргинин, етилхексилглицерин, натриев хиалуронат, декстрин, екстракт от Theobroma Cacao, пропандиол, екстракт от корен на Coptis Chinensis, масло от Mentha Arvensis, кросполимер на натриев хиалуронат, хидролизирани гликозаминогликани, бензил гликол, хидролизирана хиалуронова киселина, динатриев хиалуронат, екстракт от малина

Начин на употреба
Нанесете лист маската върху чиста и суха кожа. Оставете за 15-20 минути, след което отстранете и нежно потупайте останалата есенция в кожата, докато се абсорбира напълно.

Предупреждения
Само за външна употреба.
Пазете далеч от деца.
Избягвайте контакт с очите.
Не прилагайте върху увредена или раздразнена кожа.
Съхранявайте на хладно и сухо място, далеч от пряка слънчева светлина и топлина.